Capucho HLV, Lima Júnior M de JV, Mendes AM da S, Lopes MTG, Pinheiro ASP, da Silva LN. PARÂMETROS TECNOLÓGICOS DE SEMENTES APLICADOS À SELEÇÃO DE ÁRVORES MATRIZES SUPERIORES DE Ormosia discolor SPRUCE EX BENTH. RARV [Internet]. 24º de setembro de 2021 [citado 21º de novembro de 2024];45(1):https://doi.org/10.1590/1806-908820210000036. Disponível em: https://revistaarvore.ufv.br/rarv/article/view/248666